◆ |
經營理念 |
................................................... |
◆ |
公司沿革 |
................................................... |
◆ |
服務項目 |
................................................... |
◆ |
服務據點 |
| ................................................... |
◆ |
公司位置 |
| ................................................... |
 |
|
|
| ∣ 公司沿革 ............................................................................................................................................. |
| 1992：公司成立,生產3KW棕片曝光機、3KW網版晒版機 |
| 1993：7KW曝光機研發成功,量產正式跨入PCB產業 |
| 1994：5KW曝光機研發成功,光罩對準曝光機研發成功,跨入IC,LED高科技產業 |
| 1996：乾膜壓膜機 |
| 1997：底片保護膜壓膜機 |
| 1998：PCB板面清潔機 |
| 1999：TAB、COF自動壓合機研發成功,跨入TAB、COF產業 |
| 2000：5KW平行光曝光機、5KW RTR自動曝光機、5KW RTR自動平行曝光機 等設備研發成功 , |
| |
邁向PCB細線路4mil以下製程 |
|
| 2001：LCD自動覆膜機、LCD板面清潔機、FPC板面清潔機研發成功,跨入LCD產業 |
| 2002：TAB靜電除塵機 |
| 2003：光罩自動對準曝光機 |
| 2004：FPC乾膜壓膜機,RTR自動壓膜機 |
2005：STR自動壓膜機 |
|
