半導體業
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FPC-RTR
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耗材用品
 
JH-1000C 光罩對準曝光機
1. 電源:單相,AC220~415V,50/60Hz,40A
2. 燈源:1KW短弧點光源 ×1燈
3. 光平行度:平行角≦1. 5°,解析度1~5um
4. 曝光面積:4"×4"~8'×8"
5. 曝光平均度:95%以上
6. 曝光檯面: 光罩VS玻璃基板,氣動式檯面自動進出
7. 曝光控制器:UV光積量控制系統(自動補償功能)
8. 曝光方式:近接式曝光(光罩與玻璃之間隙可調整)
9. 控制系統:PLC微電腦自動控制
10. 燈管冷卻:強制空冷
11. 燈室冷卻:外部強制抽風
12. 對位裝置:CCD自動對位系統,對位精度±2um
13. 使用條件:無塵室等級1000級以上
14. 機台尺寸:1200(L)× 800(W)× 1700(H)mm  
15. 重量:300kg  
16. 氣壓源:5kgf/cm2  
   
 
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